管式爐具有操作簡單、保溫效果好、控溫精度高、溫度范圍大以及可通氣氛等特點，主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
 

　　在使用過程中，因操作不當(dāng)?shù)囊蛩?，很容易?dǎo)致設(shè)備出現(xiàn)真空度不高的情況，從而影響設(shè)備的使用效率，無法達(dá)到使用標(biāo)準(zhǔn)，對此，我們應(yīng)該如何進行抽真空操作，從而保證設(shè)備的使用。

　　然而為了節(jié)約成本，我們根據(jù)抽真空的目的是排除氧氣，我們可以向管式爐內(nèi)部充入氮氣、氬氣等惰性氣體，降低氧氣濃度從而達(dá)到實驗材料不會出現(xiàn)氧化還原現(xiàn)象，操作步驟如下：
 

　　1、首先，我們將接上真空泵和氮氣瓶，然后將所有閥門關(guān)閉，打開真空泵和真空閥門，觀察壓力表等到真空泵真空度穩(wěn)定后，關(guān)閉真空閥門和真空泵；
 

　　2、然后打開氣瓶打開進氣閥門，等到壓力表恢復(fù)常壓后，關(guān)閉進氣閥門；
 

　　3、此時爐內(nèi)空氣濃度降低，但空氣仍有殘留，我們重復(fù)上述步驟，即可得到更高純度的氮氣從而排除空氣，如需更高純度的實驗可多次重復(fù)上述步驟。注意打開和關(guān)閉泵閥氣瓶順序。
 

　　部分實驗室管式爐需要在真空內(nèi)實驗，真空泵度很高，但是達(dá)不到實驗要求，可能是抽完真空后直接關(guān)閉真空泵沒有關(guān)閉真空閥門，因為真空泵不工作狀態(tài)會回流空氣，從而導(dǎo)致空氣進入爐管內(nèi)，我們只需在抽完真空后先關(guān)閉真空閥門即可解決此類問題。